शुद्धता ९९.८% नायट्रोजन अणुयुक्त गोलाकार अॅल्युमिनियम पावडर/ अणुयुक्त अॅल्युमिनियम पावडर/ गोलाकार अॅल्युमिनियम पावडर

१- धातूचे रंगद्रव्ये

【कण आकार रिंग झाला】：D50=1 - 50 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥ ९९.८०%

【अशुद्धता नियंत्रण】: फे≤०.०८%, सि≤०.०६%, एच२ओ≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: पांढरा आणि चमकदार रंग, मजबूत धातूचा प्रभाव, उच्च कव्हरेज दर, वेगवेगळ्या बॅचमध्ये सुसंगत गुणवत्ता, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

२- थर्मल इंटरफेस मटेरियल

थर्मल कंडक्टिव्हिटी उद्योग, थर्मल इंटरफेस मटेरियल, थर्मल कंडक्टिव्ह सिलिकॉन ग्रीस आणि थर्मल कंडक्टिव्ह अॅडेसिव्हसाठी योग्य आहे

कण आकार श्रेणी: D50=1 - 70 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८%

【अशुद्धता नियंत्रण】: फे≤०.०८%, सि≤०.०६%, एच२ओ≤०.१%, इतर प्रत्येकी ≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, चांगली थर्मल चालकता कार्यक्षमता, चांगली प्रक्रिया कार्यक्षमता आणि खडबडीत कणांचे चांगले नियंत्रण, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

३- सौर पेशी वाहक पेस्ट

हे सौर सेल कंडक्टिव्ह पेस्ट उद्योगासाठी योग्य आहे, ज्यामध्ये पारंपारिक अॅल्युमिनियम पेस्ट, PECK इत्यादींचा समावेश आहे, ज्यांचे उत्पादन चांगल्या दर्जाचे आहे.

【कण आकार श्रेणी】: D50=2 - 10 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८ अशुद्धता नियंत्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, चांगली वीज चालकता, चांगली प्रक्रिया कार्यक्षमता आणि परिवर्तनाची उच्च कार्यक्षमता, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

४- पावडर धातूशास्त्र

【कण आकार श्रेणी】: D50=10 - 300 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८%

【अशुद्धता नियंत्रण】: Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, इतर प्रत्येकी≤0.01%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, कमी अशुद्धता आणि चांगली प्रक्रिया कार्यक्षमता, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

५- लक्ष्ये फोडणे

【कण आकार श्रेणी】: D50=20 - 70 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियंत्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, कमी अशुद्धता, कमी ऑक्सिजन सामग्री आणि चांगली प्रक्रिया कार्यक्षमता, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

६- रसायनशास्त्रात

रासायनिक उत्प्रेरक उद्योगासाठी योग्य आहे आणि मौल्यवान धातू उत्प्रेरक किंवा सेंद्रिय उत्प्रेरकाचा वाहक म्हणून वापरला जाऊ शकतो. हे अल्काइल अॅल्युमिनियम, ऊर्जावान इंधन, टायटॅनियम डायऑक्साइड आणि इतर उद्योगांना देखील लागू होते.

【कण आकार श्रेणी】: D50=30 - 500 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियंत्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, कमी अशुद्धता, चांगली गोलाकारता आणि केंद्रित वितरण, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

७- थर्मल स्प्रे

【कण आकार श्रेणी】: D50=30 - 100 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियंत्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, कमी अशुद्धता, चांगले कण आकार एकरूपता, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

८- रेफ्रेक्ट्री मटेरियल

【कण आकार श्रेणी】: D50=10 - 200 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियंत्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, कमी अशुद्धता आणि चांगले कण आकार एकरूपता, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

९- ३डी प्रिंटिंग

३डी प्रिंटिंग तंत्रज्ञानाचे सार "रॅपिड प्रोटोटाइपिंग टेक्नॉलॉजी" आहे, जे डिजिटल मॉडेल फाइलवर आधारित आहे, ज्यामध्ये लेयर प्रिंटिंगद्वारे वस्तू तयार करण्यासाठी पावडर मेटल किंवा प्लास्टिक आणि इतर चिकट पदार्थांचा वापर केला जातो.

【कण आकार श्रेणी】: D50=10 - 200 मायक्रॉन

【पवित्रता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियंत्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, इतर प्रत्येकी≤०.०१%

【वैशिष्ट्ये】: उच्च शुद्धता, कमी अशुद्धता, चांगली गोलाकारता आणि केंद्रित वितरण, सानुकूलित उत्पादन उपलब्ध आहे.

१०- लष्करी उद्योग

प्रतिक्रिया देऊ शकते एचटीपीबी, सॉलिड रॉकेट प्रोपेलेंट अॅडिटिव्ह, एरोस्पेस आणि स्फोटक पदार्थांसाठी,

११- इतर वगैरे...