Nano-Siliziumnitrid/ Nano Si3N4 20nm 99,9%
Déi wichtegst Charakteristike vunNano-Siliziumnitrid ultrafein Siliziumnitridpulver, dat mat enger spezieller Prozessmethod hiergestallt gëtt, mat héijer Rengheet, klenger Partikelgréisst, grousser Verdeelung, grousser Uewerfläch, Uewerflächenaktivitéit, niddreger Schumstoffdicht, UV-Reflexiounsquote vun 95% an enger Absorptioun vun Infraroutstrahlung vun iwwer 97%. Dëst Apparat huet eng Porzellanform mat enger gerénger Temperatur, gudder Dimensiounsstabilitéit, héijer mechanescher Stäerkt, Resistenz géint chemesch Korrosioun, héijer Temperaturstäerkt a selbstschmierenden Effekt bei der Bildung vun enger feiner dispergéierter Phas, wouduerch d'Gesamtperformance vum Komposit staark verbessert gëtt. Seng Produkter mat selbstschmierenden Eegeschafte kënnen op Ueleg ugewannt ginn. Déi héich Häert vum Siliziumnitrid an de Gleitreibungskoeffizient kënnen op d'Metalluewerfläch vu verschleißbeständege Keramik-Kompositbeschichtungen ugewannt ginn. D'Uwendung op d'Beschichtungen huet verschleißbeständegkeet an Léisungsmëtteleigenschaften. Héichreinheet vum Siliziumnitrid kann a Quarz-Tichel-Fräisetzungsmëttel benotzt ginn.
1. D'Hierstellung vu Strukturelementer: wéi Kugel- a Rolllager, déi an der Metallurgie, der Chimie, der Maschinnen-, Loftfaart-, Raumfaart- an Energieindustrie benotzt ginn, Gläichlager, Hülsen, Ventiler, an Ufuerderunge fir Verschleiß-, Héichtemperaturbeständegkeet a Korrosiounsbeständegkeet fir Strukturelementer. Rakéitendüsen, Rakéit mat Düse;
2. Uewerflächenbehandlung vu Metaller an aner Materialien: wéi zum Beispill Formen, Schneidinstrumenter, Turbinneblieder, Turbinnerotor an d'Zylinderwandbeschichtungslegierung;
3. Kompositmaterialien: Metaller, Keramik a Kompositmaterialien op Graphitbasis, Gummi, Plastik, Beschichtungen, Klebstoffer an aner Kompositmaterialien op Polymerbasis;
4. Selbstschmierend Nanopartikelfilmer fir Handyen, Autoen an aner Uewerflächenschutz, verschleißbeständeg Beschichtung, Elektrophorese-Faarfadditiver, hunn héich Abriebseigenschaften.
| Produkter ginn klasséiert | Modell | Duerchschnëttlech Partikelgréisst (nm) | Rengheet (%) | Spezifesch Uewerfläch (m²2/ g) | Volumendicht (g / cm3) | Polymorphen | Faarf |
| Nanoskala | An3N4-001 | 20 | > 99,9 | 59,6 | 0,09 | Amorph | Wäiss |
| Submikron | An3N4-002 | 800 | > 99,5 | 10.3 | 1.16 | Gesiichtszentréiert kubesch | Gro |
| Héichreinheetsgrad | An3N4-003 | 800-1000 | > 99,99 | 9,80 | 1.20 | Gesiichtszentréiert kubesch | Gro |
| 1. | Nano-Siliziumnitrid / Nano Si3N4 20nm 99,9% |
| 2. | Nano-Aluminiumnitrid / Nano AlN 30nm 99,9% |
| 3. | Nano-Titannitrid / Nano-TiN 20nm 99,9% |
| 4. | Nano-Bornitrid / Nano-BN 50nm 99,9% |
| 5. | Nano-Zirkoniumnitrid / Nano-ZrN 50nm 99,9% |
| 6. | Nano-Vanadiumnitrid / Nano-VN 40nm 99,9% |
