နာနို-ဆီလီကွန် နိုက်ထရိုက်/ နာနို Si3N4 20nm 99.9%

အဓိက လက္ခဏာများမှာနာနို-ဆီလီကွန် နိုက်ထရိုက် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဆီလီကွန် နိုက်ထရိုက် အမှုန့်ကို အထူးလုပ်ငန်းစဉ်နည်းလမ်းဖြင့် ပြင်ဆင်ထားပြီး မြင့်မားသော သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှု၊ အမှုန်အရွယ်အစားသေးငယ်မှု၊ ဖြန့်ဖြူးမှု၊ မျက်နှာပြင်ဧရိယာကြီးမားမှု၊ မျက်နှာပြင်လှုပ်ရှားမှု၊ သိပ်သည်းဆနည်းပါးမှု၊ ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် ရောင်ပြန်ဟပ်မှုနှုန်း ၉၅% နှင့် အနီအောက်ရောင်ခြည် စုပ်ယူမှုနှုန်း ၉၇% အထက်၊ စက်ပစ္စည်းကို ကြွေထည်အဖြစ်သို့ အပူချိန်နိမ့်၊ ကောင်းမွန်သော အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှု၊ မြင့်မားသော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာအစွမ်းသတ္တိ၊ ဓာတုဗေဒချေးခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ မြင့်မားသော အပူချိန်အစွမ်းသတ္တိနှင့် ပေါင်းစပ်ဖွဲ့စည်းမှုတွင် ကိုယ်တိုင်ချောဆီဖြစ်စေသော အာနိသင်ရှိသောကြောင့် ပေါင်းစပ်မှု၏ အလုံးစုံစွမ်းဆောင်ရည်ကို များစွာတိုးတက်စေသည်။ ၎င်း၏ ထုတ်ကုန်များသည် ကိုယ်တိုင်ချောဆီဖြစ်စေသော ဂုဏ်သတ္တိများရှိပြီး ဆီကို အသုံးပြုနိုင်သည်။ ဆီလီကွန် နိုက်ထရိုက်၏ မာကျောမှုမြင့်မားခြင်း၊ လျှောကျနေသော ပွတ်တိုက်မှုကိန်းဂဏန်း ဝိသေသလက္ခဏာများကို ကြွေထည် ဟောင်းနွမ်းမှုဒဏ်ခံနိုင်သော ပေါင်းစပ်အလွှာများ၏ သတ္တုမျက်နှာပြင်တွင် အသုံးပြုနိုင်ပြီး အလွှာများတွင် အသုံးပြုပါက ဟောင်းနွမ်းမှုဒဏ်ခံနိုင်ပြီး ပျော်ဝင်နိုင်သော ဝိသေသလက္ခဏာများကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်ပြီး မြင့်မားသော သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ဆီလီကွန် နိုက်ထရိုက်ကို ကွာ့ဇ် crucible ထုတ်လွှတ်သည့် အေးဂျင့်တွင် အသုံးပြုနိုင်သည်။