१-हाइड्रोक्सी इथाइलिडीन-१,१-डाइफोस्फोनिक एसिड (HEDP) HEDP ९०% पाउडर/ HEDP ६०% तरल

एचईडीपी यो एक अर्गानोफोस्फोरिक एसिड क्षरण अवरोधक हो। यसले Fe, Cu, र Zn आयनहरूसँग मिलेर स्थिर चेलेटिंग यौगिकहरू बनाउन सक्छ। यसले यी धातुहरूको सतहमा अक्सिडाइज्ड पदार्थहरू पगाल्न सक्छ। एचईडीपी २५० डिग्री सेल्सियस तापक्रममा उत्कृष्ट स्केल र जंग निषेध प्रभावहरू देखाउँछ। एचईडीपी उच्च pH मान अन्तर्गत राम्रो रासायनिक स्थिरता छ, हाइड्रोलाइज गर्न गाह्रो छ, र सामान्य प्रकाश र ताप अवस्थामा विघटन गर्न गाह्रो छ। यसको एसिड/क्षार र क्लोरिन अक्सिडेशन सहनशीलता अन्य अर्गानोफस्फोरिक एसिड (नुन) भन्दा राम्रो छ। एचईडीपी पानी प्रणालीमा धातु आयनहरूसँग प्रतिक्रिया गरेर हेक्सा-तत्व चेलेटिंग जटिल बनाउन सक्छ, विशेष गरी क्याल्सियम आयन सहित। त्यसैले, एचईडीपी राम्रो एन्टीस्केल र दृश्यात्मक थ्रेसहोल्ड प्रभावहरू छन्। अन्य पानी उपचार रसायनहरूसँग मिलेर बनाउँदा, यसले राम्रो सिनर्जिस्टिक प्रभावहरू देखाउँछ। ठोस अवस्था एचईडीपी यो क्रिस्टल पाउडर हो, जुन जाडो र चिसो जिल्लाहरूमा प्रयोगको लागि उपयुक्त छ। यसको उच्च शुद्धताको कारण, यसलाई इलेक्ट्रोनिक क्षेत्रहरूमा सफाई एजेन्टको रूपमा र दैनिक रसायनहरूमा additives को रूपमा प्रयोग गर्न सकिन्छ।