शुद्धता ९९.८% नाइट्रोजन परमाणुकृत गोलाकार आल्मुनियम पाउडर/ परमाणुकृत आल्मुनियम पाउडर/ गोलाकार आल्मुनियम पाउडर

१- धातुको रंगद्रव्य

【कण आकारको घण्टी】：D50=1 - 50 माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥ ९९.८०%

【अशुद्धता नियन्त्रण】: Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताहरू】: सेतो र उज्यालो रंग, बलियो धातु प्रभाव, उच्च कभरेज दर, विभिन्न ब्याचहरू बीच एकरूप गुणस्तर, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

२- थर्मल इन्टरफेस सामग्री

थर्मल चालकता उद्योग, थर्मल इन्टरफेस सामग्री, थर्मल चालक सिलिकॉन ग्रीस र थर्मल चालकता चिपकने को लागी उपयुक्त छ।

कण आकार दायरा: D50=1 - 70 माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८%

【अशुद्धता नियन्त्रण】: Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक ≤0.01%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, राम्रो थर्मल चालकता प्रदर्शन, राम्रो प्रशोधन प्रदर्शन र मोटे कणहरूको राम्रो नियन्त्रण, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

३- सौर्य कोशिका प्रवाहकीय पेस्ट

यो सौर्य सेल कन्डक्टिभ पेस्ट उद्योगको लागि उपयुक्त छ, जसमा परम्परागत आल्मुनियम पेस्ट, PECK आदि समावेश छन्, जसको उत्पादन राम्रो गुणस्तरको छ।

【कण आकार दायरा】: D50=2 - १० माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८ अशुद्धता नियन्त्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, अन्य प्रत्येक≤०.०१%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, राम्रो बिजुली चालकता, राम्रो प्रशोधन प्रदर्शन र रूपान्तरणको उच्च दक्षता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

४- पाउडर धातु विज्ञान

【कण आकार दायरा】: D50=10 - 300 माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८%

【अशुद्धता नियन्त्रण】: Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता र राम्रो प्रशोधन प्रदर्शन, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

५- स्पटरिङ लक्ष्यहरू

【कण आकार दायरा】: D50=20 - 70 माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियन्त्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, अन्य प्रत्येक≤०.०१%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, कम अक्सिजन सामग्री र राम्रो प्रशोधन प्रदर्शन, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

६- रसायन विज्ञानमा

रासायनिक उत्प्रेरक उद्योगको लागि उपयुक्त छ र बहुमूल्य धातु उत्प्रेरक वा जैविक उत्प्रेरकको वाहकको रूपमा प्रयोग गर्न सकिन्छ। यो अल्काइल आल्मुनियम, ऊर्जावान इन्धन, टाइटेनियम डाइअक्साइड र अन्य उद्योगहरूमा पनि लागू हुन्छ।

【कण आकार दायरा】: D50=30 - 500 माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियन्त्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, अन्य प्रत्येक≤०.०१%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, राम्रो गोलाकारता र केन्द्रित वितरण, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

७- थर्मल स्प्रे

【कण आकार दायरा】: D50=30 - 100 माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियन्त्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, अन्य प्रत्येक≤०.०१%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, राम्रो कण आकार एकरूपता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

८- रिफ्रेक्ट्री सामग्री

【कण आकार दायरा】: D50=१० - २०० माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियन्त्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, अन्य प्रत्येक≤०.०१%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता र राम्रो कण आकार एकरूपता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

९- थ्रीडी प्रिन्टिङ

थ्रीडी प्रिन्टिङ प्रविधिको सार "र्‍यापिड प्रोटोटाइपिङ प्रविधि" हो, जुन डिजिटल मोडेल फाइलमा आधारित छ, जसमा पाउडर मेटल वा प्लास्टिक र अन्य टाँस्ने सामग्रीहरू प्रयोग गरेर लेयर प्रिन्टिङद्वारा वस्तुहरू निर्माण गरिन्छ।

【कण आकार दायरा】: D50=१० - २०० माइक्रोन

【शुद्धता】: अल ≥९९.८% अशुद्धता नियन्त्रण: Fe≤०.०८%, Si≤०.०६%, H2O≤०.१%, अन्य प्रत्येक≤०.०१%

【विशेषताहरू】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, राम्रो गोलाकारता, र केन्द्रित वितरण, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध छ।

१०- सैन्य उद्योग

प्रतिक्रिया दिन सक्छ एचटीपीबी, ठोस रकेट प्रोपेलेन्ट एडिटिभ, एयरोस्पेस र विस्फोटक सामग्रीको लागि,

११- अन्य आदि...