ନାନୋମିଟର ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ SiC(SiC 40nm 99.9%)
ର ମୁଖ୍ୟ ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକନାନୋମିଟର ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍, ଏକ ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ପ୍ରକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ପ୍ରସ୍ତୁତ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ଫାଇନ୍ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ପାଉଡର ଯାହା ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା, ଛୋଟ କଣିକା ଆକାର ବଣ୍ଟନ ପରିସର, ଉଚ୍ଚ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠ କ୍ଷେତ୍ରଫଳ ସହିତ ପ୍ରସ୍ତୁତ; ନାନୋ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଏକ ସ୍ଥିର ରାସାୟନିକ ଗୁଣ, ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ପରିବାହିତା (165W/MK), ତାପଜ ବିସ୍ତାରର ଗୁଣାଙ୍କ ଛୋଟ, ଉଚ୍ଚ କଠୋରତା, Mohs କଠୋରତା 9.5, ମାଇକ୍ରୋକଠୋରତା 2840 ~ 3320kg/mm2 ଅଛି। ପ୍ରଥମତଃ ସାମଗ୍ରୀ ପିନ୍ଧିବା ଆଡିଟିଭ୍, କୋରୁଣ୍ଡମ୍ ଏବଂ ହୀରା ମଧ୍ୟରେ ଏହାର କଠୋରତା, ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଶକ୍ତି କୋରୁଣ୍ଡମ୍ ଅପେକ୍ଷା ଅଧିକ; ନାନୋ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତାପଜ ପରିବାହିତା, କିମ୍ବା ଏକ ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଆଣ୍ଟି-ଅକ୍ସିଡେସନ୍; ନାନୋ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ପିନ୍ଧିବା-ପ୍ରତିରୋଧୀ, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ, କ୍ଷୟ, ଏସିଡ୍ ଏବଂ କ୍ଷାର ଦ୍ରବକ, ରଙ୍ଗରେ ବ୍ୟାପକ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ, ଭିତର ରଙ୍ଗ କରେ, ପିନ୍ଧିବା ପ୍ରତିରୋଧକୁ ବୃଦ୍ଧି କରେ।
1. ଏକ ପରିବର୍ତ୍ତିତ ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ନାଇଲନ୍ ସାମଗ୍ରୀ: ପଲିମର କମ୍ପୋଜିଟରେ ନାନୋ-SiC ପାଉଡର ଭଲ ସୁସଙ୍ଗତତା, ଭଲ ବିଚ୍ଛିନ୍ନତା ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଅଛି, ସାଧାରଣ PA6 ତୁଳନାରେ ପରିବର୍ତ୍ତିତ ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ନାଇଲନ୍ ମିଶ୍ରଧାତୁର ଟାନସାଇଲ ଶକ୍ତି 150% ବୃଦ୍ଧି ପାଇଛି, ପିନ୍ଧା ପ୍ରତିରୋଧ ତିନି ଗୁଣରୁ ଅଧିକ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଛି। ମୁଖ୍ୟତଃ ବସ୍ତ୍ରବନ୍ଧିତ ଟ୍ରାକ୍ ହୋଇଥିବା ଯାନଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ପଲିମର ଅଂଶ, ଷ୍ଟିଅରିଂ ଅଂଶ, ଟେକ୍ସଟାଇଲ ଯନ୍ତ୍ରପାତି, ଖଣି ଯନ୍ତ୍ରପାତି, ଲାଇନିଂ, ଟ୍ରେନ ଅଂଶଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ ଯାହା କମ୍ ତାପମାତ୍ରାରେ ସିଣ୍ଟରିଂ ଘନତା ହାସଲ କରିପାରିବ;
2. ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ପଲିଥର ଇଥର କିଟୋନ୍ (PEEK) ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧର ପରିବର୍ତ୍ତନ: କମ୍ପାନୀ ପରେ ନାନୋ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ପୃଷ୍ଠ ଚିକିତ୍ସା, 5% କିମ୍ବା ତା'ଠାରୁ ଅଧିକ ଯୋଡିବା, PEEK ର ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ବହୁଳ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ ଏବଂ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ ଏବଂ (30% ରୁ ଅଧିକ ମୂଳକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ);
3. ରବର ଟାୟାରରେ nm ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍: ନାନୋ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍, ପ୍ରିମିସ ତଳେ ପ୍ରାୟ 2% ଯୋଡନ୍ତୁ, ଏହାର ମୂଳ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଗୁଣବତ୍ତା ସହିତ ଆପତ୍ତି ନକରି ମୂଳ ଆଣ୍ଠୁ ସୂତ୍ର ପରିବର୍ତ୍ତନକୁ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରେ ନାହିଁ, ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧ 20% -40% ବୃଦ୍ଧି କରାଯାଇପାରିବ। ଏହା ସହିତ, ରବର ରୋଲର, ପ୍ରିଣ୍ଟର ଫ୍ୟୁଜର୍ ଫିଲ୍ମ ପରିଧାନ, ତାପ, ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ରବର ଉତ୍ପାଦରେ ବ୍ୟବହୃତ 40 nm ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍;
୪. ଧାତୁ ପୃଷ୍ଠ ନାନୋ-SiC କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଆବରଣ: ନାନୋସ୍କେଲ କଣିକାର ମିଶ୍ରିତ କଣିକା, ନିକେଲ ମାଟ୍ରିକ୍ସ ଧାତୁ, ଏକ ଉଚ୍ଚ ଘନତ୍ୱ ଗଠନ କରିବା ପାଇଁ ଧାତୁ ପୃଷ୍ଠ, ବହୁତ ଭଲ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡେପୋଜିଟେଡ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଆବରଣକୁ ବାନ୍ଧେ, ସୁପର-କଠିନ (ପରିଧାନ) ଏବଂ ଆଣ୍ଟିଫ୍ରିକ୍ସନ୍ ସ୍ୱ-ଲୁବ୍ରିକେଟିଂ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟ ସହିତ ଧାତୁ ପୃଷ୍ଠ। କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଆବରଣର ମାଇକ୍ରୋହାର୍ଡନେସ୍ ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ବହୁ ପରିମାଣରେ ଉନ୍ନତ କରେ 2-3 ଗୁଣ ବୃଦ୍ଧି ପାଏ, ସେବା ଜୀବନ 3-5 ଗୁଣ ବୃଦ୍ଧି ପାଏ, ଆବରଣ ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ବାଇଣ୍ଡିଂ କ୍ଷମତା 40% ବୃଦ୍ଧି ପାଏ, କଭରେଜ୍ କ୍ଷମତା, ସମାନ ଆବରଣ, ମସୃଣ, ବିସ୍ତୃତ; ପାଞ୍ଚଟି ଅନ୍ୟ ପ୍ରୟୋଗ: ଉଚ୍ଚ-କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ସଂରଚନାଗତ ସିରାମିକ୍ସ (ଯେପରିକି ରକେଟ୍ ନୋଜଲ୍, ପରମାଣୁ ଶିଳ୍ପ, ଇତ୍ୟାଦି), ଅବଶୋଷକ, ପରିଧାନ ବିରୋଧୀ ଗ୍ରୀସ୍, ଉଚ୍ଚ-କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ବ୍ରେକ୍ ପ୍ୟାଡ୍, ଉଚ୍ଚ କଠୋରତା ଏବଂ ପରିଧାନ-ପ୍ରତିରୋଧୀ ପାଉଡର ଆବରଣ, ସିରାମିକ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ସୁଦୃଢ଼ୀକରଣ ଏବଂ କଠିନ କରିବା, ଇତ୍ୟାଦି;
ମହାକାଶ ଶିଳ୍ପ ଆବରଣର ଗଠନ, କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଆବରଣ, ସୁରକ୍ଷା ଆବରଣ, ଶୋଷକ ସାମଗ୍ରୀ, ଗୁପ୍ତ ସାମଗ୍ରୀ, ଇତ୍ୟାଦି;
ଟ୍ୟାଙ୍କ ଏବଂ ସଶସ୍ତ୍ରବାହୀ ଯାନର ସୁରକ୍ଷା କବଚ; ସିରାମିକ୍ କଟିଂ ଉପକରଣ, କଟିଂ ଉପକରଣ, ମାପ ଉପକରଣ, ଛାଞ୍ଚ ପାଇଁ;
ଗଠନମୂଳକ ସେରାମିକ୍ସ, କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ସେରାମିକ୍ସ, ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ସେରାମିକ୍ସ; ଇଗ୍ନିସନ୍; ଶିଳ୍ପ ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ବୈଦ୍ୟୁତିକ ଗରମ ଉପାଦାନ, ଦୂର ଇନଫ୍ରାରେଡ୍ ଜେନେରେଟରର ବିଶେଷ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ।
| ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକୁ ବର୍ଗୀକୃତ କରାଯାଇଛି | ମଡେଲ | ହାରାହାରି କଣିକା ଆକାର (nm) | ବିଶୁଦ୍ଧତା (%) | ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠ କ୍ଷେତ୍ରଫଳ (ମି୨/ ଛ) | ବଲ୍କ ଘନତ୍ୱ (ଗ୍ରାମ / ସେମି୩) | ପଲିମର୍ଫସ୍ | ରଙ୍ଗ |
| ନାନୋସ୍କେଲ୍ | ସିସି-୦୦୧ | ୪୦ | > ୯୯.୯ | ୩୯.୮ | ୦.୧୧ | ଘନାକାର | ସେଲାଡନ୍ |
| ସବମାଇକ୍ରୋନ୍ | ସିସି-୦୦୨ | ୬୦୦ ରୁ ୮୦୦ | > ୯୯.୫ | ୩.୨୦ | ୧.୫୨ | ଘନାକାର | ଅଗଭୀର ଧଳା |
| ୧. | ନାନୋମିଟର ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ SiC 40nm 99.9% |
| ୨। | ନାନୋ-ଟାଇଟାନିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ TiC 40nm 99.9% |
| ୩। | ନାନୋ ସଂରଚିତ WC ପାଉଡର/ ନାନୋ WC 50nm 99.9% |
| ୪। | ନାନୋମିଟର ଜିରକୋନିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ ZrC 50nm 99.9% |
| ୫। | ନାନୋ ଭାନାଡିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ ଭିସି ୫୦ଏନଏମ ୯୯.୯% |
| ୬। | ନାନୋ-ଟାଣ୍ଟାଲମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ ଟାସି 100nm 99.9% |
| ୭। | ନାନୋ-ମଲିବଡେନମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ MoC 80nm 99.9% |
| ୮। | ନାନୋ-କ୍ରୋମିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ / ନାନୋ CrC 80nm 99.9% |
