نانو-ټینټالم کاربایډ/ نانو TaC ۱۰۰nm ۹۹.۹٪

د اصلي ځانګړتیاوود نانو-ټینټالم کاربایډ الټرافین ټنټالم کاربایډ پوډر د یوې ځانګړې پروسې له لارې چمتو شوی، د پوډر ذراتو اندازه یوشانوالی، په اسانۍ سره خپریږي، سخت او کیفیت یې ډیر مهم دی، لوړ کیمیاوي ثبات او ښه لوړ حرارت ځانګړتیاوې، قوي انټي اکسیډنټ ظرفیت، د لوی بریښنایی چالکتیا. کثافت 14.5g/cm3 د خټکي نقطه 38750C، د جوش نقطه 55000C. د ټنټالم کاربایډ الټرافین پوډر یو مهم سیرامیک مواد دي، فلزي او نادر فلزي کاربایډونه TaC، NbC، Cr2C3، VC، د الیاژ د غلو دانو د ودې د مخنیوي او د اصلي هدف لپاره د سازماني جوړښت د ښه کولو لپاره اضافه شوي، که دا د غټو غلو دانو الټرافین غلو الیاژونو تولید وي، لکه د کان کیندنې وسایل، یا ګردي بارونه باید د ټیټ نادر فلزي کاربایډ ذراتو اندازه غوره کړي ځکه چې اضافه شوي، دا یوازې د WC د غلو دانو اندازه تنظیم کول او تنظیمي جوړښت ته وده ورکول پیل کوي، او پدې توګه، هیله ده چې د هاوجیو ځړول د اضافه کولو اغیز څومره چې ښه خپریږي هومره ډیر وي. په ځانګړي توګه د ګردي بارونو او نورو الټرا-فائن دانې الیاژ لپاره، که چیرې اضافه کونکی ډیر سخت وي، مګر د الیاژ فولډر موټی وي، نو البته دا مناسب نه دی.