سۇيۇق HEDP 60% 1-گىدروكسىئېتىلىدېن-1،1-دىفوسفون كىسلاتاسى cas 2809-21-4 ئېتىدرون كىسلاتاسى مونوگىدرات

ئالاھىدىلىكلىرى:
HEDP ئورگانوفوسفور كىسلاتاسىنىڭ چىرىش توسقۇچىسى بولۇپ، ئۇ Fe، Cu ۋە Zn قاتارلىقلار بىلەن خېلاتلىشىدۇ.
مېتال ئىئونلىرى مۇقىم مۇرەككەپ بىرىكمە ھاسىل قىلىدۇ.
ئۇ بۇ مېتاللارنىڭ يۈزىدىكى ئوكسىدلانغان ماتېرىياللارنى ئېرىتەلەيدۇ. 250℃ دىن تۆۋەن تېمپېراتۇرىدا HEDP ناھايىتى ياخشى كۆلەم ۋە چىرىشنى توسۇش ئىقتىدارىنى نامايان قىلىدۇ.
HEDP يۇقىرى pH قىممىتى ئاستىدا ياخشى خىمىيىلىك تۇراقلىققا ئىگە، گىدرولىزلىنىش تەس، ئادەتتىكى يورۇقلۇق ۋە ئىسسىقلىق شارائىتىدا پارچىلىنىش تەس. ئۇنىڭ كىسلاتا/ئىشكار ۋە خىلور ئوكسىدلىنىشقا چىدامچانلىقى باشقا ئورگانوفوسفور كىسلاتالىرى (تۇز) غا قارىغاندا ياخشىراق.
HEDP سۇ سىستېمىسىدىكى مېتال ئىئونلىرى بىلەن رېئاكسىيە قىلىپ، ئالتە ئېلېمېنتلىق خېلاتلاش بىرىكمىسىنى ھاسىل قىلالايدۇ، بولۇپمۇ كالتسىي ئىئونى. شۇڭا، HEDP ياخشى قاپارتما ۋە كۆرۈنىدىغان چەك تەسىرىگە ئىگە.
باشقا سۇنى بىر تەرەپ قىلىش خىمىيىلىك ماددىلار بىلەن بىرلىكتە ياسالغاندا، ئۇ ياخشى بىرىكمە ئۈنۈم بېرىدۇ.

HEDP نىڭ قاتتىق ماددىسى يۇقىرى ساپلىقتىكى مەھسۇلات بولۇپ، قىشلىق ۋە توڭ رايونلاردا ئىشلىتىشكە ماس كېلىدۇ.
ئۇ ئېلېكترونلۇق ساھەلەردە تازىلاش دورىسى ۋە كۈندىلىك خىمىيىلىك ماددىلارغا قوشۇمچە ماددىلار سۈپىتىدە ئىشلىتىشكە ناھايىتى ماس كېلىدۇ.

قوللىنىشچان پروگراممىلار:
HEDP ئېلېكتر ئېنېرگىيەسى، خىمىيە سانائىتى، مېتاللورگىيە، ئوغۇت قاتارلىق ساھەلەرنىڭ ئايلىنىۋاتقان سوغۇق سۇ سىستېمىسىدا كەڭ قوللىنىلىدۇ، شۇنداقلا تۆۋەن بېسىملىق قازانلار، سۇ ئاپىتى ۋە نېفىت تۇرۇبىلىرىنىڭ قازناق ۋە چىرىشنىڭ ئالدىنى ئېلىش دورىسى سۈپىتىدە كەڭ قوللىنىلىدۇ.

يېنىك ۋە توقۇمىچىلىق سانائىتىدە، HEDP مېتال ۋە مېتال بولمىغان بۇيۇملارنى يۇيۇش سۇيۇقلۇقى سۈپىتىدە ئىشلىتىلىدۇ. بوياق سانائىتىدە، HEDP پېروكسىد مۇقىملاشتۇرغۇچى ۋە بوياقنى چىڭىتىش دورىسى سۈپىتىدە ئىشلىتىلىدۇ؛ سىئانىدسىز ئېلېكترو قاپلاشتا، HEDP خېلاتلاش دورىسى سۈپىتىدە ئىشلىتىلىدۇ. 1-10mg/L مىقدارىدا قاپارتما توسقۇچى، 10-50mg/L داتلىشىش توسقۇچى ۋە 1000-2000mg/L داتلاش سۇيۇقلۇقى سۈپىتىدە ئىشلىتىلىدۇ. ئادەتتە، HEDP پولىكاربون كىسلاتاسى بىلەن بىللە ئىشلىتىلىدۇ.