Nano-Siliziumnitrid/Nano-Si3N4 20 nm 99,9 %
Die Hauptmerkmale vonNano-Siliziumnitrid-Pulver, hergestellt durch ein spezielles Verfahren, zeichnet sich durch hohe Reinheit, geringe Partikelgröße und -verteilung, große Oberfläche, hohe Oberflächenaktivität und geringe Schüttdichte aus. Es besitzt eine UV-Reflexionsrate von 95 % und eine Infrarotabsorption von über 97 %. In Verbindung mit Porzellan weist es bei niedrigen Temperaturen gute Dimensionsstabilität, hohe mechanische Festigkeit, Beständigkeit gegen chemische Korrosion und hohe Temperaturfestigkeit auf. Durch die Bildung einer fein dispergierten Phase entwickelt es einen selbstschmierenden Effekt im Kompositmaterial, wodurch die Gesamtleistung des Komposits deutlich verbessert wird. Produkte mit diesen selbstschmierenden Eigenschaften können in Ölen eingesetzt werden. Die hohe Härte und der Gleitreibungskoeffizient von Siliziumnitrid ermöglichen die Anwendung in verschleißfesten Keramik-Kompositbeschichtungen auf Metalloberflächen. Diese Beschichtungen bieten Verschleißschutz und Lösungsmittelbeständigkeit. Hochreines Siliziumnitrid kann zudem als Trennmittel in Quarztiegeln verwendet werden.
1. Die Herstellung von Strukturbauteilen: wie Kugel- und Rollenlager für die Metallurgie, Chemie, den Maschinenbau, die Luft- und Raumfahrt sowie die Energiewirtschaft, Gleitlager, Hülsen, Ventile und Strukturbauteile mit Anforderungen an Verschleiß-, Hochtemperatur- und Korrosionsbeständigkeit. Raketendüsen, Flugkörper mit Düse;
2. Oberflächenbehandlung von Metallen und anderen Werkstoffen: wie z. B. Formen, Schneidwerkzeuge, Turbinenschaufeln, Turbinenrotoren und die Zylinderwandbeschichtungslegierung;
3. Verbundwerkstoffe: Metalle, Keramik und Graphit-basierte Verbundwerkstoffe, Gummi, Kunststoffe, Beschichtungen, Klebstoffe und andere Polymer-basierte Verbundwerkstoffe;
4. selbstschmierende Nanopartikelfilme für Mobiltelefone, Autos und andere Oberflächenschutzarten, verschleißfeste Beschichtungen, elektrophoretische Lackadditive, die eine hohe Abriebfestigkeit aufweisen.
| Produkte werden klassifiziert | Modell | Mittlere Partikelgröße (nm) | Reinheit (%) | Spezifische Oberfläche (m²)2/ G) | Schüttdichte (g / cm³)3) | Polymorphe | Farbe |
| Nanometerbereich | Und3N4-001 | 20 | > 99,9 | 59,6 | 0,09 | Amorph | Weiß |
| Submikron | Und3N4-002 | 800 | > 99,5 | 10.3 | 1.16 | Flächenzentrierter Kubus | Grau |
| Hochreiner Grad | Und3N4-003 | 800-1000 | > 99,99 | 9,80 | 1.20 | Flächenzentrierter Kubus | Grau |
| 1. | Nano-Siliziumnitrid / Nano-Si3N4 20 nm 99,9 % |
| 2. | Nano-Aluminiumnitrid / Nano-AlN 30 nm 99,9 % |
| 3. | Nano-Titannitrid / Nano-TiN 20 nm 99,9 % |
| 4. | Nano-Bornitrid / Nano-BN 50 nm 99,9 % |
| 5. | Nano-Zirkoniumnitrid / Nano-ZrN 50 nm 99,9 % |
| 6. | Nano-Vanadiumnitrid / Nano-VN 40 nm 99,9 % |
