ઇન્ડિયમ ટીન ઓક્સાઇડ નેનોપાવડર (નેનો ઇન2O3:SnO2=90wt%:10wt%)
ઇન્ડિયમ ટીન ઓક્સાઇડ નેનોપાવડર (In2O3:SnO2=90wt%:10wt%)
શુદ્ધતા: 99.99%--ICP—AES પદ્ધતિ દ્વારા પરીક્ષણ કરાયેલ
APS: 20-30 nm--નાઇટ્રોજન શોષણ (BET) દ્વારા પરીક્ષણ કરાયેલ; TEM અવલોકન (TEM)
સર્વાંગી વપરાશ: ૩૫ ચોરસ મીટર/ગ્રામ
રંગ: વાદળી
આકારશાસ્ત્ર: બોલ
બલ્ક ડેન્સિટી: ~0.83 ગ્રામ/સેમી3
સાચી ઘનતા: 7.14 ગ્રામ/સેમી3
બનાવવાની પદ્ધતિ: રાસાયણિક અવક્ષેપ
| ૧. | નેનો ઝેનઓ ૩૦એનએમ ૯૯.૯% |
| 2. | નેનો TiO2 રૂટાઇલ 35nm 99.9% |
| ૩. | નેનો TiO2 એનાટેઝ 10nm 99.9% |
| ૪. | નેનો Al(OH)3 30nm 99.9% |
| ૫. | નેનો ZrO2 10nm 99.9% |
| ૬. | નેનો ની(OH)2 20nm 99.9% |
| ૭. | મેગ્નેશિયમ ઓક્સાઇડ નેનોપાવડર (MgO) |
| ૮. | નેનો Fe3O4 50nm 99.5% |
| ૯. | નેનો ટીઆઈ(ઓએચ)4 20nm 99.9% |
| ૧૦. | નેનો એઝો 20nm 99.9% |
| ૧૧. | નેનો ઇન(OH)3 20nm 99.9% |
| ૧૨. | નેનો SiO2 30nm 99.9% |
| ૧૩. | નેનો Mg(OH)2 40nm 99.9% |
| ૧૪. | નેનો HfO2 100nm 99.9% |
| ૧૫. | નેનો WO3 50nm 99.9% |
| ૧૬. | નેનો α-Fe2O3 30nm 99.5% |
| ૧૭. | નેનો γ-Fe2O3 20nm 99.5% |
| ૧૯. | નેનો MnO2 50nm 99.5% |
| ૨૦. | નેનો SnO2 50nm 99.9% |
| ૨૧. | નેનો Mg(OH)2 50nm 99.9% |
| ૨૨. | નેનો CuO 40nm 99.9% |
| ૨૩. | એન્ટિમોની ટીન ઓક્સાઇડ નેનોપાર્ટિકલ્સ (ATO) |
| ૨૪. | ઇન્ડિયમ ટીન ઓક્સાઇડ નેનોપાવડર |
| ૨૫. | નિકલ ઓક્સાઇડ નેનોપાર્ટિકલ્સ (NiO) |
| ૨૬. | નેનો Y2O3 30nm 99.9% |
| ૨૭. | નેનો CeO2 20nm 99.99% |
| ૨૮. | નેનો La2O3 40nm 99.9% |
| ૨૯. | નેનો Co3O4 30nm 99.9% |
| ૩૦. | નેનો MoO3 50nm 99.5% |
| ૩૧. | નેનો Nd2O3 40nm 99.9% |
| ૩૨. | નેનો Gd2O3 40nm 99.9% |
| ૩૩. | નેનો Sm2O3 40nm 99.9% |
| ૩૪. | નેનો Bi2O3 80nm 99.9% |
| ૩૫. | નેનો Er2O3 30nm 99.9% |
| ૩૬. | નેનો Pr6O11 50nm 99.9% |
| ૩૭. | 2wt% એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ (AZO) સાથે ડોપ કરેલ ઝિંક ઓક્સાઇડ નેનોપાર્ટિકલ્સ |
| ૩૮. | નેનો Dy2O3 30nm 99.9% |
| ૩૯. | નેનો In2O3 30nm 99.9% |
