बैनर

उत्पाद

उच्च गुणवत्ता वाला MoS2 98.5%-99.9% मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड CAS 1317-33-5

संक्षिप्त वर्णन:

रासायनिक नाम: मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड

समानार्थी शब्द: मोलिब्डेनम(IV) सल्फाइड; मोलिब्डेनम सल्फाइड; MoS2

सूक्ष्मता: D50=1.5μm, 4-5μm, 12μm-16μm

शुद्धता: 98.5%, 99.5%, 99.9%

सीएएस क्रमांक 1317-33-5


उत्पाद विवरण

उत्पाद टैग

उत्पाद वर्णन

मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड एक अच्छा ठोस स्नेहक है जो निर्वात या हवा में स्थायी रूप से चिकनाई प्रदान करता है। इसका घर्षण गुणांक अपेक्षाकृत कम होता है और 350℃ से कम तापमान वाली हवा में भी निरंतर चिकनाई प्रदान कर सकता है। कार्बन ब्रश एडिटिव का उपयोग करने से ब्रश का जीवनकाल 15-20% तक प्रभावी रूप से बढ़ाया जा सकता है।

मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड (MoS2 पाउडर) मोलिब्डेनम और सल्फर से बना एक अकार्बनिक यौगिक है। इसका रासायनिक सूत्र MoS2 है। अधिकांश खनिज लवणों की तरह, MoS2 का गलनांक उच्च होता है, लेकिन यह अपेक्षाकृत कम तापमान 450ºC पर ऊर्ध्वपातन शुरू कर देता है। यह गुण यौगिकों के शुद्धिकरण के लिए उपयोगी है।

अपनी चिकनाई के अलावा, MoS2 पाउडर एक अर्धचालक भी है। यह भी ज्ञात है कि जब इसे विद्युतस्थैतिक क्षेत्र से डोप किया जाता है, तो यह और अन्य अर्धचालक संक्रमण धातु चालकोजेनाइड अपनी सतह पर अतिचालक बन जाते हैं।

मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड और संबंधित मोलिब्डेनम सल्फाइड हाइड्रोजन उत्पादन के लिए कुशल उत्प्रेरक हैं, जिसमें पानी का इलेक्ट्रोलाइसिस भी शामिल है; इस प्रकार, ईंधन सेल में उपयोग के लिए हाइड्रोजन उत्पादन में ये उपयोगी हो सकते हैं।

MoS2 पाउडर में यांत्रिक शक्ति, विद्युत चालकता होती है और यह प्रकाश उत्सर्जित कर सकता है, जिससे फोटोडिटेक्टर जैसे अनुप्रयोगों की संभावनाएं खुलती हैं। MoS2 का अध्ययन फोटोइलेक्ट्रोकेमिकल (जैसे फोटोकैटलिटिक हाइड्रोजन उत्पादन के लिए) और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स अनुप्रयोगों के एक घटक के रूप में किया गया है।

आवेदन

ऑटोमोबाइल और मशीनरी उद्योग में व्यापक रूप से उपयोग किए जाने वाले कार्बन ब्रश एडिटिव्स को लुब्रिकेटिंग ऑयल, ग्रीस, पॉलीटेट्राफ्लोरॉन, नायलॉन, पैराफिन और स्टीयरिक एसिड में मिलाकर लुब्रिकेशन को बेहतर बनाया जा सकता है और घर्षण को कम किया जा सकता है। इनका उपयोग अलौह धातु स्ट्रिपिंग एजेंट और फोर्जिंग डाई लुब्रिकेंट के रूप में भी किया जा सकता है, जिससे उपयोग की अवधि प्रभावी रूप से बढ़ जाती है और कार्य स्थितियों में सुधार होता है; रनिंग-इन ऑपरेशन की स्थिति में सुधार होता है, सतह की क्षति को रोका जा सकता है, कोल्ड वेल्डिंग को रोका जा सकता है और थ्रेड कनेक्शन का उपयोग करते समय सर्वोत्तम कनेक्शन स्थिति सुनिश्चित की जा सकती है; कुछ वाष्पशील सॉल्वैंट्स के साथ मिलाकर धातु की सतह पर स्प्रे किया जा सकता है या इंजीनियरिंग प्लास्टिक में मिलाकर लुब्रिकेशन तत्व बनाया जा सकता है। इलेक्ट्रॉनिक्स, स्प्रेइंग, इलेक्ट्रोप्लेटिंग, हार्डवेयर, स्क्रू और अन्य उद्योग इस प्रकार के उत्पादों का सीधे उपयोग कर सकते हैं।

विनिर्देश

उत्पाद आयडी FORMULA शुद्धता (%) कण का आकार/डी50 क्रिस्टल रूप रंग उत्पादन (टन/वर्ष)
MoS2-I MoS2 ≥99.9 50-100 एनएम पाउडर धूसर काला 100
MoS2-II MoS2 ≥99.9 100-200 एनएम पाउडर धूसर काला 100
MoS2-III MoS2 ≥99.9 13-16 माइक्रोमीटर पाउडर धूसर काला 100
MoS2-IV MoS2 ≥98.5 1.5~3.0μm पाउडर धूसर काला 100
MoS2-V MoS2 ≥98.5 4~5 माइक्रोमीटर पाउडर धूसर काला 100

 

उत्पादों की अनुशंसा करें

नहीं।

मामला संख्या

रासायनिक नाम
1.

13499-05-3

हैफनियम(IV) क्लोराइड
2.

13637-68-8

मोलिब्डेनम डाइक्लोराइड डाइऑक्साइड/ MoO2Cl2
3.

7721-01-9

टैंटलम(V) क्लोराइड/ TaCl5
4.

10026-12-7

नायोबियम(V) क्लोराइड/ एनबीसीएल5
5.

10241-05-1

मोलिब्डेनम(V) क्लोराइड / MoCl5
6.

16925-25-0

सोडियम हेक्साफ्लोरोएंटिमोनैट
7.

13283-01-7

टंगस्टन क्लोराइड WCl6
8.

1345-07-9

बिस्मथ(III) सल्फाइड / Bi2S3
9.

1315-01-1

टिन डाइसल्फाइड / SnS2
10.

1314-95-0

टिन सल्फाइड / SnS
11।

1317-33-5

मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड / MoS2
12.

1317-33-5

नैनो मोलिब्डेनम डाइसल्फाइड / MoS2
13.

12138-09-9

टंगस्टन डाइसल्फाइड / WS2
14.

12138-09-9

नैनो टंगस्टन डाइसल्फाइड / WS2
15.

...

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