Bubuk tantalum(v) klorida dengan kemurnian tinggi 99,99% TaCl5 cas 7721-01-9
Bubuk tantalum(v) klorida 99,99% TaCl5 cas 7721-01-9
Detail produk:
Nama Kimia: tantalum(v) klorida
CAS: 7721-01-9
Rumus molekuler: TaCl5
Kemurnian: 99,95%, 99,99%
Film tipis feroelektrik, agen klorinasi reaksi organik, pelapisan tantalum oksida, pembuatan bubuk tantalum CV tinggi, superkapasitor, dll.
1. Pada permukaan komponen elektronik, perangkat semikonduktor, permukaan elektroda titanium dan nitrida logam, permukaan tungsten logam membentuk adhesi yang kuat, dengan ketebalan lapisan isolasi 0,1μm, dan memiliki sifat dielektrik yang tinggi.
2. Dalam industri klor-alkali, lembaran tembaga elektrolitik, permukaan anoda elektrolitik industri oksigen, dan industri pengolahan air limbah dicampur dengan senyawa rutenium dan senyawa kelompok platinum untuk membentuk lapisan konduktif oksida, meningkatkan daya rekat lapisan, dan memperpanjang masa pakai elektroda lebih dari 5 tahun.
3. Untuk menyiapkan tantalum pentoksida ultrahalus.
| Barang | Indeks |
| Penampilan | Bubuk putih murni |
| Pengujian | ≥99,95%, 99,99% |
| TIDAK. | NOMOR KASUS | Nama Kimia |
| 1. | 13499-05-3 | Hafnium(IV) klorida |
| 2. | 13637-68-8 | Molibdenum diklorida dioksida/ MoO2Cl2 |
| 3. | 7721-01-9 | Tantalum(V) klorida/ TaCl5 |
| 4. | 10026-12-7 | Niobium(V) Klorida/ NbCl5 |
| 5. | 10241-05-1 | Molibdenum(V) klorida / MoCl5 |
| 6. | 16925-25-0 | Natrium Heksafluoroantimonat |
| 7. | 13283-01-7 | Tungsten Klorida WCl6 |
| 8. | 1345-07-9 | Bismut(III) Sulfida / Bi2S3 |
| 9. | 1315-01-1 | Timah Disulfida / SnS2 |
| 10. | 1314-95-0 | Timah sulfida / SnS |
| 11. | 1317-33-5 | Molibdenum Disulfida / MoS2 |
| 12. | 1317-33-5 | Nano Molibdenum Disulfida / MoS2 |
| 13. | 12138-09-9 | Tungsten Disulfida / WS2 |
| 14. | 12138-09-9 | Nano Tungsten Disulfida / WS2 |
| 15. | ... | www.theoremchem.com |
