Cloruro de tántalo(v) en po de alta pureza ao 99,99 % TaCl5 cas 7721-01-9

Película fina ferroeléctrica, axente de cloración por reacción orgánica, revestimento de óxido de tántalo, preparación de po de tántalo de alto CV, supercondensador, etc.

1. Na superficie de compoñentes electrónicos, dispositivos semicondutores, titanio e superficie de eléctrodos de nitruro metálico, a superficie metálica de tungsteno forma unha forte adhesión, cun espesor de película illante de 0,1 μm, con altas propiedades dieléctricas.

2. Na industria cloro-álcali, a folla de cobre electrolítico, a superficie do ánodo electrolítico da industria do osíxeno e a industria das augas residuais mestúranse con compostos de rutenio e compostos do grupo da platina para formar unha película condutora de óxido, mellorando a adhesión da película e prolongando a vida útil do eléctrodo máis de 5 anos.

3. Para preparar pentóxido de tántalo ultrafino.