אבקת טנטלום (v) כלוריד בטוהר גבוה 99.99% TaCl5 cas 7721-01-9

סרט דק פרו-אלקטרי, חומר כלור לתגובה אורגנית, ציפוי תחמוצת טנטלום, הכנת אבקת טנטלום בעלת CV גבוה, קבל-על וכו'

1. על פני השטח של רכיבים אלקטרוניים, התקני מוליכים למחצה, טיטניום ומתכת ניטריד אלקטרודות, משטח טונגסטן מתכתי נוצר הידבקות חזקה, עובי של 0.1 מיקרומטר של סרט בידוד, עם תכונות דיאלקטריות גבוהות.

2. בתעשיית הכלור-אלקלי, נייר נחושת אלקטרוליטי, תעשיית חמצן, פני שטח אנודה אלקטרוליטיים ותעשיית שפכים מעורבבים עם תרכובת רותניום ותרכובת פלטינה ליצירת סרט מוליך תחמוצת, משפר את הידבקות הסרט ומאריך את חיי השירות של האלקטרודה ליותר מ-5 שנים.

3. להכין טנטלום פנטוקסיד דק במיוחד.