नॅनो-निकेल पावडर/ नॅनो नी पावडर(Ni 50nm 99.9%)
मुख्य वैशिष्ट्येनॅनो-निकेल पावडर, ही एका विशेष प्रक्रिया पद्धतीने तयार केलेली अतिसूक्ष्म निकेल पावडर आहे, जी इलेक्ट्रोलाइटिक निकेल पावडर आणि ॲटोमाइज्ड निकेल पावडर यांचे फायदे एकत्र आणते. यात ९९.५% पेक्षा कमी नसलेले उच्च-शुद्धतेचे निकेल, कार्बन, फॉस्फरस, सल्फर, ऑक्सिजन आणि इतर घटकांचे कमी प्रमाण असते. कणांचा आकार नियंत्रित असतो, पावडरच्या दाबण्यामुळे ती अधिक सैल होते आणि तिची गतिशीलता चांगली असते.
| १. नॅनोस्केल लोह, नॅनो कोबाल्ट, नॅनो निकेल नॅनो-मिश्रधातू पावडर वापरून तयार केलेल्या चुंबकीय द्रवाची कार्यक्षमता उत्कृष्ट असते, त्याचा उपयोग डॅम्पिंग सील करणे, वैद्यकीय उपकरणे, ध्वनी नियंत्रण, प्रकाश प्रदर्शन यांसारख्या कामांसाठी मोठ्या प्रमाणावर केला जाऊ शकतो; २. कार्यक्षम उत्प्रेरक: नॅनो-निकेल अतिसूक्ष्म निकेल पावडर, तिच्या मोठ्या विशिष्ट पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ आणि उच्च सक्रियतेमुळे, तीव्र उत्प्रेरक प्रभाव दर्शवते, तिचा वापर सेंद्रिय हायड्रोजनीकरण, वाहनांच्या एक्झॉस्ट वायूमध्ये केला जाऊ शकतो; ३. कार्यक्षम प्रवेगक: रॉकेटच्या घन इंधन प्रणोदकामध्ये नॅनो-निकेल पावडर मिसळल्याने इंधनाच्या ज्वलनाचा वेग, ज्वलनाची उष्णता लक्षणीयरीत्या वाढते आणि ज्वलनाची स्थिरता सुधारते. ४. प्रवाहकीय पेस्ट: इलेक्ट्रॉनिक पेस्टचा वापर मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगात वायरिंग, पॅकेजिंग, कनेक्टिव्हिटीमध्ये मोठ्या प्रमाणावर केला जातो आणि मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणांच्या लघुकरणात ती महत्त्वाची भूमिका बजावते. निकेल, तांबे, ॲल्युमिनियम, चांदीच्या नॅनो पावडरपासून बनवलेल्या उत्कृष्ट इलेक्ट्रॉनिक स्लरीमुळे, लाइनचे आणखी लघुकरण होते; ५. उच्च-कार्यक्षमता असलेले इलेक्ट्रोड साहित्य: नॅनो-निकेल पावडर, आणि सहाय्यक व योग्य तंत्रज्ञानाच्या साहाय्याने, प्रचंड पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ असलेले इलेक्ट्रोड तयार करता येतात जे डिस्चार्ज कार्यक्षमतेत लक्षणीय सुधारणा करू शकतात; ६. सक्रिय सिंटरिंग अॅडिटिव्ह्ज: नॅनो पावडर तिच्या पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ आणि पृष्ठभागावरील अणूंच्या प्रमाणामुळे कमी तापमानात उच्च ऊर्जा स्थितीत सिंटरिंग होते, हे एक प्रभावी सिंटरिंग अॅडिटिव्ह्ज आहे जे पावडर मेटलर्जी उत्पादने आणि उच्च-तापमान सिरॅमिक उत्पादनांचे सिंटरिंग तापमान लक्षणीयरीत्या कमी करू शकते; ७, धातू आणि अधातूंच्या पृष्ठभागावर प्रवाहकीय लेपाची प्रक्रिया: नॅनो ॲल्युमिनियम, नॅनो कॉपर, नॅनो निकेल-सक्रिय पृष्ठभाग, लेपाच्या चूर्णाच्या वितळणबिंदूपेक्षा कमी तापमानात ऑक्सिजनविरहित परिस्थितीत. हे तंत्र सूक्ष्म इलेक्ट्रॉनिक उपकरणांच्या उत्पादनासाठी वापरले जाऊ शकते. |
| उत्पादनांचे वर्गीकरण केले जाते | मॉडेल | सरासरी कणांचा आकार (nm) | शुद्धता (%) | विशिष्ट पृष्ठभाग क्षेत्रफळ (मी²)२/ g) | स्थूल घनता (ग्रॅम / सेमी३) | बहुरूप | रंग |
| नॅनोस्केल | इन-००१ | ५० | ९९.९ | २३.२ | ०.२२ | जवळजवळ गोलाकार | काळा |
| सबमायक्रॉन | इन-००२ | ६०० | ९९.० | ३.८० | १.४९ | गोलाकार | राखाडी |
| १. | नॅनो-कॉपर पावडर/नॅनो क्यू पावडर (क्यू ५० एनएम ९९.९%) |
| २. | नॅनो-झिंक पावडर / नॅनो झेडएन पावडर (झेडएन ५० एनएम ९९.९%) |
| ३. | नॅनो-कोबाल्ट पावडर / नॅनो को पावडर (Co 50nm 99.9%) |
| ४. | नॅनो-मोलिब्डेनम पावडर / नॅनो मो पावडर (Mo 50nm 99.9%) |
| ५. | नॅनो-निकेल पावडर/ नॅनो नी पावडर(Ni 50nm 99.9%) |
| ६. | नॅनो-टिन पावडर / नॅनो एसएएन पावडर (एसएन ५० एनएम ९९.९%) |
| ७. | मॅग्नेशियम ऑक्साईड नॅनोपावडर (MgO) |
| ८. | नॅनो-टायटॅनियम पावडर/ नॅनो टी पावडर (Ti 40nm 99.9%) |
| ९. | नॅनो-टंगस्टन पावडर / नॅनो डब्ल्यू पावडर (डब्ल्यू ५० एनएम ९९.९%) |
| १०. | नॅनो-बी पावडर/ नॅनो द्वि पावडर (Bi 50nm 99.9%) |
| ११. | सोन्याचे नॅनोकण (Au) / नॅनो सोन्याची पावडर (Au 12-15nm 99.99%) |
| १२. | प्लॅटिनम नॅनोपार्टिकल्स / नॅनो पीटी पावडर (पीटी १० एनएम ९९.९%) |
| १३. | टँटलम नॅनोपावडर / नॅनोपार्टिकल्स (Ta)/ Nano Ta पावडर (Ta 80nm 99.9%) |
| १४. | नॅनो सिल्व्हर पावडर |
| १५. | नॅनो-ॲल्युमिनियम/ नॅनो अल पावडर |
| १६. | नॅनो-लोह पावडर/ नॅनो Fe ५०nm |
