nano-silikon nitrida/ nano Si3N4 20nm 99.9%
Ciri-ciri utama bagiSerbuk silikon nitrida ultrahalus nano-silikon nitrida yang disediakan melalui kaedah proses khas, ketulenan tinggi, saiz zarah kecil, taburan, luas permukaan yang besar, aktiviti permukaan, ketumpatan pukal rendah, kadar pantulan UV 95% dan penyerapan kadar penyerapan inframerah melebihi 97%. Peranti ini dimasukkan ke dalam porselin dengan suhu rendah, kestabilan dimensi yang baik, kekuatan mekanikal yang tinggi, rintangan kakisan kimia, kekuatan suhu tinggi, dan kesan pelincir sendiri dalam komposit dalam pembentukan fasa tersebar halus, sekali gus meningkatkan prestasi keseluruhan komposit dengan ketara. Produknya dengan sifat pelincir sendiri, boleh digunakan pada minyak. Kekerasan silikon nitrida yang tinggi, pekali ciri geseran gelongsor boleh digunakan pada permukaan logam salutan komposit tahan haus seramik, yang digunakan pada salutan boleh memainkan ciri tahan haus dan pelarut, silikon nitrida ketulenan tinggi boleh digunakan dalam agen pelepas pijar kuarza.
1. Pembuatan peranti struktur: seperti bebola dan penggelek galas penggelek yang digunakan dalam industri metalurgi, kimia, jentera, penerbangan, aeroangkasa dan tenaga, galas biasa, lengan, injap, dan haus, rintangan suhu tinggi, keperluan rintangan kakisan untuk peranti struktur. muncung roket, peluru berpandu dengan muncung;
2. Rawatan permukaan logam dan bahan lain: seperti acuan, alat pemotong, bilah turbin, rotor turbin dan aloi salutan dinding silinder;
3. bahan komposit: logam, seramik dan komposit berasaskan grafit, getah, plastik, salutan, pelekat dan komposit berasaskan polimer yang lain;
4. memakai filem nanopartikel pelincir sendiri untuk telefon bimbit, kereta dan perlindungan permukaan lain, salutan tahan haus, bahan tambahan cat elektroforesis, memainkan ciri lelasan yang tinggi.
| Produk dikelaskan | Model | Saiz zarah purata (nm) | Ketulenan (%) | Luas permukaan tertentu (m2/g) | Ketumpatan pukal (g/cm3) | Polimorf | Warna |
| Nanoskala | Dan3N4-001 | 20 | > 99.9 | 59.6 | 0.09 | Amorfus | Putih |
| Submikron | Dan3N4-002 | 800 | > 99.5 | 10.3 | 1.16 | Kubik berpusat muka | Kelabu |
| Gred ketulenan tinggi | Dan3N4-003 | 800-1000 | > 99.99 | 9.80 | 1.20 | Kubik berpusat muka | Kelabu |
| 1. | nano-silikon nitrida / nano Si3N4 20nm 99.9% |
| 2. | nano-aluminium nitrida / nano AlN 30nm 99.9% |
| 3. | nano-titanium nitrida / nano TiN 20nm 99.9% |
| 4. | nano boron nitrida / nano BN 50nm 99.9% |
| 5. | nano-zirkonium nitrida / nano ZrN 50nm 99.9% |
| 6. | nano vanadium nitrida / nano VN 40nm 99.9% |
