అధిక స్వచ్ఛత 99.99% టాంటాలమ్(v) క్లోరైడ్ పౌడర్ TaCl5 cas 7721-01-9

ఫెర్రోఎలెక్ట్రిక్ పలుచని పొర, సేంద్రీయ చర్య క్లోరినేషన్ కారకం, టాంటలమ్ ఆక్సైడ్ పూత, అధిక CV టాంటలమ్ పౌడర్ తయారీ, సూపర్ కెపాసిటర్, మొదలైనవి.

1. ఎలక్ట్రానిక్ భాగాలు, సెమీకండక్టర్ పరికరాల ఉపరితలంపై, టైటానియం మరియు మెటల్ నైట్రైడ్ ఎలక్ట్రోడ్ ఉపరితలంపై, మెటల్ టంగ్‌స్టన్ ఉపరితలం 0.1μm మందం స్థాయి బలమైన అంటుకునే గుణం గల ఇన్సులేటింగ్ ఫిల్మ్‌ను ఏర్పరుస్తుంది, దీనికి అధిక విద్యుద్వాహక లక్షణాలు ఉంటాయి.

2. క్లోర్-ఆల్కలీ పరిశ్రమ ఎలక్ట్రోలైటిక్ రాగి రేకు, ఆక్సిజన్ పరిశ్రమ ఎలక్ట్రోలైటిక్ యానోడ్ ఉపరితలం మరియు మురుగునీటి పరిశ్రమలో రుథేనియం సమ్మేళనం, ప్లాటినం గ్రూప్ సమ్మేళనంతో కలిపి ఆక్సైడ్ వాహక పొరను ఏర్పరుస్తారు, ఇది పొర అంటుకునే గుణాన్ని మెరుగుపరుస్తుంది, ఎలక్ట్రోడ్ యొక్క సేవా జీవితాన్ని 5 సంవత్సరాల కంటే ఎక్కువ కాలం పొడిగిస్తుంది.

3. అతి సూక్ష్మమైన టాంటాలమ్ పెంటాక్సైడ్‌ను తయారు చేయడానికి.